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研究所新闻
装备与设计研究所发明专利“一种高分子阴离子型壳聚糖表面活性剂及制备方法”获得授权
时间: 2020-02-26浏览次数:

装备与设计研究所于近日接到中华人民共和国国家知识产权局“一种高分子阴离子型壳聚糖表面活性剂及制备方法”的授予发明专利权通知书。

    一、通知书内容摘要

    1、发明创造名称:一种高分子阴离子型壳聚糖表面活性剂及制备方法

    2、申请号或专利号:201710568338.0

    3、申请人或专利权人:中国日用化学工业研究院

    二、该项专利技术简介

    本发明涉及一种高分子阴离子型壳聚糖表面活性剂的结构式如下:其中n=100~3000。本发明具有生产成本低,纯度高,无污染,溶解性好的优点。


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